（1）科技部，国家重点研发计划项目（青年科学家），2022YFF0607600，水下光栅干涉型重力测量自溯源技术与应用研究，2022-10至2025-9，在研，主持；

（2）国家自然科学基金委员会，面上项目，62475195，基于光频梳的铬原子光刻跃迁频率测量与锁频应用研究，2025.01至2028.12，在研，主持。

（3）上海市科委，启明星项目，基于自溯源光栅的外差式超精密位移测量技术研究，2023-04至2026-04，在研，主持。

近年来代表性论文：

1.      Deng, Xiao, Zhijun Yin,Gaoliang Dai, Guangxu Xiao, Zhaohui Tang, Junyu Shen, Tong Zhou et al."Shortened and simplified traceability chain for dimensional metrologybased on self-traceable standards." Measurement Science andTechnology35, no. 12 (2024): 125009. （第一作者）

2.      Lin, Zichao, Jingtong Feng,Yize Wu, Hongyu Zhu, Xiao Deng, Xiong Dun, Xinbin Cheng, Lifeng Duan, andTongbao Li. "Geometrical misalignment-induced nonlinear error in homodyneinterferometers." Optics Express 32, no. 16 (2024):27125-27139. （通讯作者）

3.      Xie, Zhangning, Tao Jin, LihuaLei, Zichao Lin, Dongbai Xue, Xiong Dun, Xiao Deng, and Xinbin Cheng."Phase demodulation method of high line density grating interferometricsignal based on wavelet transform." Optics Express 32,no. 10 (2024): 16855-16866. （通讯作者）

4.      Lin, Zichao, Yulin Yao,Zhangning Xie, Dongbai Xue, Tong Zhou, Zhaohui Tang, Lihua Lei et al."Optimization and fabrication of chromium grating in self-traceableinterferometer." Precision Engineering 86 (2024):285-293. （通讯作者）

5.      Xie, Zhangning, Tao Jin, LihuaLei, Zichao Lin, Yulin Yao, Dongbai Xue, Xiong Dun, Xiao Deng, and XinbinCheng. "Study of interferometric signal correction methods inultra-precision displacement measurement." Measurement Science andTechnology 35, no. 3 (2023): 035027. （通讯作者）

6.      Tang, Zhaohui, Jun Zhao, XiaoDeng, Guangxu Xiao, Zhijun Yin, Yanqing Wu, Renzhong Tai, Xinbin Cheng, andTongbao Li. "Two-dimensional sub-200 nm pitch Si gratings with naturalorthogonality." Applied Physics Express 16, no. 10(2023): 106501. （通讯作者）

7.      Yin, Zhi-Jun, Zhao-Hui Tang,Wen Tan, Guang-Xu Xiao, Yu-Lin Yao, Dong-Bai Xue, Zhen-Jie Gu et al."Simulation research on surface growth process of positive and negativefrequency detuning chromium atom lithographic gratings." ChinesePhysics B 32, no. 10 (2023): 100601. （通讯作者）

8.      Tan, Wen, Zhaohui Tang, GuangxuXiao, Yulin Yao, Lihua Lei, Qing Li, Tao Jin, Xiao Deng, Xinbin Cheng, andTongbao Li. "Calibrate the non-orthogonal error of AFM withtwo-dimensional self-traceable grating." Ultramicroscopy 249(2023): 113734. （通讯作者）

9.      Tang, Zhaohui, Jun Zhao, XiaoDeng, Wen Tan, Yanqing Wu, Renzhong Tai, Xinbin Cheng, and Tongbao Li."Fabrication of 53.2 nm pitch self-traceable gratings by laser-focusedatomic deposition combined with extreme ultraviolet interference lithography." Optik 279(2023): 170735. （通讯作者）

Wu, Ziruo, Yingfan Xiong, Lihua Lei, Wen Tan, Zhaohui Tang, Xiao Deng,Xinbin Cheng, and Tongbao Li. "Sub-5 nm AFM tip characterizer based onmultilayer deposition technology." In Photonics, vol. 9, no.9, p. 665. MDPI, 2022. （通讯作者）

标准物质：

（1） 国家一级标准物质, 一维铬纳米光栅标准物质,GBW13982, 国家市场监督管理总局, 2021-2-9；

（2）国家一级标准物质,  一维硅纳米光栅标准物质,GBW13983, 国家市场监督管理总局, 2021-2-9；

（3）国家二级标准物质, 多结构硅纳米线宽标准物质, GBW（E）130744, 国家市场监督管理总局,2021-8-18；

（4）国家二级标准物质，二维铬纳米栅格标准物质，GBW（E）130838，国家市场监督管理总局, 2022-3-14。

授权专利：

【中国发明专利】

1、邓晓，程鑫彬，谭文，唐朝辉，林子超，李同保；基于扫描原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法；202111002683.0，授权；

2、 邓晓，程鑫彬，林子超，顾振杰，姚玉林，李同保；一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统；202110862699.2，授权；

3、程鑫彬，邓晓，刘杰，顾振杰，李同保，赵俊，杨树敏，吴衍青，邰仁忠；一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法；202010575620.3，授权；

4、程鑫彬，邓晓，李同保，刘杰，朱立；一种用于分步沉积型二维原子光刻技术的装置；201810548512X，授权；

5、程鑫彬，邓晓，李同保，刘杰，朱立；一种新型二维原子光刻栅格结构的制备方法；2018105485153，授权。

【美国发明专利】

1、Xiao Deng, Xinbin Cheng,Zichao Lin, Zhenjie Gu, Yulin Yao, Tongbao Li; SYSTEM FOR PRECISIONDISPLACEMENT BASED ON SELF-TRACEABLE GRATING INTERFERENCE; US 17/586283. （授权）

1，全国新材料与纳米计量技术委员会（MTC29）委员（2020.07~2024.06，2024年7月至今）；

2，上海市计量测试学会力学分会主任委员（2024.03开始）；

3，中国仪器仪表学会集成电路测量与仪器分会委员（2024.06-2029.06）

4，《红外与激光工程》、《计量学报》青年编委。